Čína čelí mnoha technologickým omezením, a tak se musí začít spoléhat sama na sebe. A zatímco v minulosti to bylo docela nepředstavitelné, tak nyní se jí vede pořád více, a to především v oblasti polovodičů. Přední čínský výrobce litografických součástek, Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), plánuje uvést svůj první litografický přístroj na výrobu pomocí 28nm technologie do konce tohoto roku. To sice nezní nějak zvlášť dobré, ale pravdou je, že nyní je v Číně nejmodernější litografický přístroj na výrobu čipů s 90nm technologií. Jedná se tedy o velký pokrok pro druhou největší zemi na světě.