USA postupně ztrácí vliv. Čínská média se chlubí blížícím se technologickým průlomem při výrobě čipů

Čínská média se zabývají možností, že by země mohla do konce letošního roku odhalit svůj první domácí 28nanometrový litografický stroj, což by znamenalo průlom ve snaze Pekingu o technologickou soběstačnost v situaci, kdy USA stále více omezují vývoz čipového vybavení.

Podle zprávy čínského listu Securities Daily z minulého týdne by společnost Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) měla do konce roku odhalit svůj vlastní litografický stroj SSA/800-10W s 28 nm. Zprávu podpořila státní média včetně tiskové agentury Xinhua.

Již v roce 2020 čínská média zveřejnila informace, že státní firma SMEE je blízko představení imerzního hlubokého ultrafialového (DUV) litografického stroje založeného na 28nm technologii do konce tohoto roku.

Společnost SMEE, kterou americké ministerstvo obchodu v prosinci zařadilo na obchodní černou listinu, ve středu na žádost o komentář nereagovala.

Čína se prozatím částečně spoléhá na pokročilé DUV přístroje nizozemského výrobce polovodičového vybavení ASML, který již čínským zákazníkům odmítl dodat své stroje pro (EUV) litografii, jež používají průmysloví giganti jako Taiwan Semiconductor Manufacturing Co, Samsung Electronics a Intel k výrobě špičkových čipů pro chytré telefony a aplikace umělé inteligence.

Budoucí dodávky DUV strojů společnosti ASML se však staly nejistými, protože Nizozemsko bude od 1. září požadovat, aby společnost požádala o licenci na prodej svých nejsložitějších modelů do Číny, včetně stroje TWINSCAN NXT: 2000i.

Čína v reakci na americké sankce omezuje vývoz vzácných kovů důležitých pro čipy a další technologie

Čína omezuje vývoz dvou vzácných kovů, které jsou klíčové pro výrobu elektroniky a polovodičů, protože se vyostřuje technologická bitva s USA a Evropou. Germanium a Gallium jsou dva kovy, které jsou v centru pozornosti. Jaké a jak zásadní jsou však tyto kovy?

Japonsko, kde sídlí výrobci čipových nástrojů Nikon a Tokyo Electron, začalo koncem července omezovat vývoz 23 typů vyspělých zařízení a materiálů souvisejících s čipy, včetně litografických systémů.

Tyto kroky jsou všeobecně interpretovány jako koordinované úsilí s Washingtonem, který loni v říjnu zavedl rozsáhlou sérii vývozních kontrol, jež z důvodu národní bezpečnosti omezily prodej pokročilého vybavení pro výrobu polovodičů do Číny americkými firmami, jako jsou Lam Research a Applied Materials.

Číně mezitím hrozí, že ztratí přístup ke starším modelům DUV společnosti ASML.

Podle červnové zprávy agentury Reuters, která se odvolává na anonymní zdroj, zvažuje americká vláda nová pravidla, která by jí umožnila omezit dodávky zahraničních zařízení s byť jen malým počtem amerických dílů, jako je například TWINSCAN NXT: 1980Di společnosti ASML, do některých čínských zařízení.

Taková pravidla by „značně ovlivnila“ čínské dodavatele, protože země „má pouze určitý stupeň soběstačnosti ve vyspělých výrobních procesech“, uvedl Zhang Xiaorong, ředitel výzkumného institutu Shendu Technology. Dodal, že mezi čínskými projekty litografických strojů a projekty špičkových zahraničních hráčů existuje „více než desetiletá propast“.

Společnost SMEE, kterou někteří považují za největší čínskou naději na výrobu strojů schopných vyrábět pokročilé čipy, je zatím schopna masově vyrábět ArF litografické stroje s technologií 90 nm, které lze použít k výrobě čipů nižší třídy, jako jsou čipy pro řízení napájení a rádiové frekvence. Podle Zhanga je však tento výrobní proces vysoce závislý na zahraničních materiálech pro samotné jádro.

Autor: Lukáš Drahozal

Zdroj: finance.yahoo.com